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※ ChatGPTを利用し、要約された質問です(原文:MOS半導体の不純物(?)の濃度について教えて下さ)

MOS半導体の不純物の濃度について

2023/10/19 19:27

このQ&Aのポイント
  • MOS半導体の不純物の濃度について教えてください。
  • MOS.TrのSD(ソース・ドレイン)を形成する際の不純物注入濃度は、デザインルールが小さくなるほど薄くなります。
  • 不純物注入濃度と、それにより形成されるSD(ソースドレイン)の濃度の関係は、計算されます。
※ 以下は、質問の原文です

MOS半導体の不純物(?)の濃度について教えて下さ

2018/05/14 07:37

半導体の不純物(?)の濃度について教えて下さい。

MOS.TrのSD(ソース・ドレイン)を形成する際の不純物(?)注入濃度ですが、
これはデザインルールが小さくなって、より小さいMOS.Trを形成する場合は、
不純物注入濃度は薄くなっていく方向でよろしかったでしょうか?

また、不純物(?)注入濃度と、それにより形成されるSD(ソースドレイン)の濃度の関係は、どのように計算されるのでしょうか?

よろしくお願いいたします。

回答 (1件中 1~1件目)

2018/05/15 01:43
回答No.1

電極部分の不純物プロファイルは微細化に伴い濃くなる方向ですよ
ゲート下部分の不純物プロファイルは厳密に制御されています。

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