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締切り済みの質問

水置換乾燥について

精密金属部材を水系洗浄剤で洗浄した後、純粋でリンスして乾燥させる工程についてですが、
鏡面仕様の部品に付着した水を乾燥シミを残さずに乾燥させる方法として、これまではクリーンエアーでブローして乾燥させていました。

しかし不都合な点があり、
水を別の液体で置換して、その液体を蒸発乾燥させる方法を検討するよう指示がありました。

水置換性があり、金属表面に残留せず、かつ蒸発させやすい液体といえば、メタノール、エタノール、IPA、アセトンくらいしか思いつかないのですが、
?法規制面で不都合
?引火性があるため、防爆装置が必要
との問題点があります。

上記のような問題をクリアできる水置換用の液体をご存知の方はいらっしゃいませんでしょうか。探せば何かあるはずと言われており、途方に暮れています。

投稿日時 - 2017-01-26 13:32:00

QNo.9475854

困ってます

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回答(2)

回答(1)さんの回答で ほぼ言い尽くされていると思います。

小量生産ならばフロン系の洗浄剤を
大量生産ならばIPAなどのアルコール系の洗浄剤を
お使いになられるのが有利かと思います。

また最初に立ち返ってしまいますが
洗浄剤は純水のままでブローするクリーンエアーを
窒素などに変更するなどの試行は行われたのでしょうか?

投稿日時 - 2017-01-27 13:57:00

お礼

ご回答ありがとうございます。

使用上の制限があり、窒素の供給がガスボンベにする必要があります。
このため窒素の供給量が十分に行なえないため、ほぼ除外して考えています。

記載できないのですが、被洗浄物の形状や使用条件による制限がいくつかあります。

溶剤についてのご助言もありがとうございます。
やはり可燃性液体しか選択肢がなさそうであることが裏付けられました。

投稿日時 - 2017-01-31 20:03:00

なんというかほとんど無い物強請りです。

ご使用の純水の純度がどの程度なのかわかりませんが、超純水に近いレベルであるなら代替は絶望的です。
極度の清浄度が要求される超高真空機器、特に大電力高周波にさらされる粒子加速器の加速空洞の最終洗浄には超純水が用いられています。
他にも半導体の成長基板も超純水洗浄が利用されていたと思います。

蒸留水に近い純度であれば純度向上を考えた方がよいのではと思います。

もし、ワークから金属溶出などで問題が起きているなら溶剤洗浄の方がよくなります。

たさ、「蒸発乾燥が可能」=「蒸気圧が低い」=「引火しやすい、吸入しやすい」です。

通常の洗浄剤である炭化水素ベースだとどんな物質も可燃性を持つので蒸気になった時点で引火性を有することになります。

ハロゲン化炭素ベースならある意味燃えた後の様なものなので不燃性の洗浄剤もあるようです。
ただ、塩素、臭素系だと発がん性などの生物毒性を持つものばかりだと思います。
フッ素系なら極めて安定なので不燃性で毒性も無いというものもあるようですがとても高価です。

要求仕様だとフッ素系洗浄剤も候補になりそうでしょうか。
いろいろな会社が出しているみたいです。

参考URL:https://kaken.nii.ac.jp/ja/grant/KAKENHI-PROJECT-06044219/ http://www.aruhan.gr.jp/aruhan/d1a.html http://www.jicc.org/c

投稿日時 - 2017-01-26 15:31:00

お礼

ご回答ありがとうございます。

現状使用しているのは超純水レベルではありませんが、本来は超純水の方がよいものかもしれません。

やはり炭化水素系溶剤など、可燃性液体しかなさそうでしょうか。

実はフッ素系洗浄剤は使用しております。
被洗浄物に付着した水をアルコールで置換して、フッ素系溶剤で蒸気乾燥させると非常に良い結果が得られているのですが、報告したところあまり反応がよくない状況です。

投稿日時 - 2017-01-31 19:58:00

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