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締切済み
※ ChatGPTを利用し、要約された質問です（原文：KOHを用いたSiエッチングについて）
KOHを用いたSiエッチングについて
2023/10/16 08:28
このQ&Aのポイント
- KOHにおけるSiとSiO2のエッチング選択比は100：1と言われています。
- Siのエッチングレートを上げ、SiO2のエッチングレートを下げる方法はありますか？
- KOHの濃度や温度を変えることで選択比を変えることができます。
※ 以下は、質問の原文です
KOHを用いたSiエッチングについて
2008/06/04 13:55
KOHにおける、シリコン（Si）と熱酸化膜（SiO2）のエッチング選択比は、100：1というのを聞きました。
たとえばSiのエッチングレートは上げて、逆にSiO2のエッチングレートは下げたい（選択比を変えたい）場合、有効な手法はありますか？
KOHの濃度、温度を変えるとよいのでしょうか？
ご回答、宜しくお願い致します。
回答 （3件中 1～3件目)
2008/06/06 16:35
回答No.3
太陽電池プロセスなら、選択比は？ですが、
温度と、添加剤（はなぐすり）、**OHを前処理で使用している例を
知っています。
プロセスの専門家ではありませんので、その真意は？？です。
ウエハのリサイクルでも…
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この質問は投稿から一年以上経過しています。
解決しない場合、新しい質問の投稿をおすすめします。
2008/06/06 14:29
回答No.2
半導体関連の業種では、良く視るスペックですが、多分情報が出てくる確率は
低いと思います。
貴社へ納入している薬品メーカー等に相談した方が早道と考えます。
プロセスのノウハウですから、飯の種ですから。
2008/06/04 14:45
回答No.1
SiO2の膜厚を変えて、選択比100：1にするか、
選択比の異なる水酸化溶液を使用するか、
自信はありませんが、H2O2若しくは03を使用する？？
を検討下さい。
お礼
2008/06/06 15:52
私の質問の言葉が足りなかったので恐縮なのですが、KOH前提で、SiとSiO2のエッチング選択比を100以上にしたいと考えております。
お忙しいところ、ご回答いただきましてありがとうございました。