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※ ChatGPTを利用し、要約された質問です（原文：高周波誘導加熱 半導体ウェハー影響について）
高周波誘導加熱で半導体ウェハーに影響はあるのか？
2023/10/15 22:37
このQ&Aのポイント
- 高周波誘導加熱電源を使用してアルミプレートを加熱し、半導体ウェハーに熱を伝える方法を検討しています。しかし、高周波の影響やパターン配線の切れなどの問題があるのでしょうか？
- この技術は下昇温の速度が早いため、利用したいと考えています。また、加熱温度は300〜350℃を想定していますが、アルミプレートの使用による熱歪の問題もあります。
- さらに、高周波誘導加熱はSiCなどの材料にも適用できるのでしょうか？
※ 以下は、質問の原文です
高周波誘導加熱 半導体ウェハー影響について
2008/11/18 18:09
高周波誘導加熱電源で「アルミプレート」を加熱して、
パターンが搭載された半導体ウェハーに熱を伝えることを
考えています。
やはり高周波の影響などあるのでしょうか？
(パターンの配線が加熱され切れるなど）
下昇温の速度から利用したい技術なのですが・・・・
ちなみに加熱は３００～３５０℃まで考えています。
面精度が必要なのでアルミプレートだと熱歪が・・・・
ＳｉＣなども誘導加熱できるのでしょうか？
回答 （1件中 1～1件目)
2008/11/18 21:01
回答No.1
実際にやってみたことがないので，高周波電磁界の影響で半導体ウェハーに
ダメージが起こるか断定することはできませんが，
アルミプレートによって，電磁界はシールドされるので，半導体ウェハーに
加わる電界はアルミプレートが無い場合に比べて大幅に低減されます。
アルミプレートに高周波磁界が貫通して，それによって誘導電流(渦電流）が
流れ，電流によるジュール熱で加熱する原理です。アルミプレートのサイズと
投入される電力が提示されていませんが，ドーナッツ状の電流経路を想定し
て，電流経路にどれだけの電流を流せば所要の電力が投入されるかを求めれ
ば，ドーナッツ状の経路１周に生じる誘導起電力を見積もることができます。
１周の誘導起電力＝誘導電圧が計算できれば，半導体ウェハーにダメージが
おこるかおよその推定はできると思います。
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お礼
2008/11/19 10:59
ご回答ありがとうございます。
使う高周波の波長帯により絶縁層、加熱層の厚みは検討する
ことが理解できました。
加熱層は現状１０ｍｍ以内としたいと考えています。
理由は熱容量を小さくするためです。