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※ ChatGPTを利用し、要約された質問です（原文：基板上での薄膜形成について）
基板上での薄膜形成について
2023/10/13 07:27
このQ&Aのポイント
- Si基板とガラス基板に薄膜を作製するための基板洗浄の必要性について質問です。
- Si基板の洗浄には濃硫酸：過酸化水素水＝3:7のRCA洗浄が一般的ですが、この方法は必要なのでしょうか。
- ガラス基板の洗浄には溶剤＋純水で十分なのか質問です。
※ 以下は、質問の原文です
基板上での薄膜形成について
2003/08/14 20:56
Si基板とガラス基板にそれぞれ薄膜（同じもの）を作製したいのですが、基板の洗浄についての質問です。
Si基板：とある文献には濃硫酸：過酸化水素水＝3:7、70℃、1hと書いてあったのですが、一般的なRCA洗浄は必要ないのでしょうか。
ガラス基板：溶剤＋純水？でいいのでしょうか。
薄膜を形成するプロセスは交互吸着法です。
その他、何か注意するべき点などがあったら教えて下さい。
ど素人なもので、よく分かりません。
宜しくお願いします。
回答 （1件中 1～1件目)
2006/10/06 10:14
回答No.1
ガラス基板に薄膜を作製するための洗浄研究を行っています
現在、洗浄レベルや汚れの対象が年々変わるため
「洗浄レベルを明確にして、洗浄方法を検討されることを進めます」
各社、洗浄方法はブラックボックス化させていますが洗浄対象が高くなると
化学反応を利用した数種類（オゾン・光・超純水 等）の方法で検討しているようです
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